口腔助理醫(yī)師【口腔修復(fù)學(xué)】考試資料：全口義齒的印模和模型

2020-05-06 18:07 來(lái)源：醫(yī)學(xué)教育網(wǎng)

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【口腔修復(fù)學(xué)】全口義齒的印模和模型

1.印模的分類(lèi)

１）根據(jù)取印模的次數(shù)分為一次印模法和二次印模法。一次印模法是用合適的成品托盤(pán)及用海藻酸印模材或熱塑性印模材一次完成工作印模的方法。二次印模法又稱(chēng)聯(lián)合印模法，由初印模和終印模組成，是在患者口中制取兩次印模后完成工作印模的方法。

２）根據(jù)取印模時(shí)，患者張口或閉口分為開(kāi)口式印模和閉口式印模。

３）根據(jù)取印模時(shí)是否對(duì)黏膜造成壓力分為黏膜靜止式印模和黏膜運(yùn)動(dòng)式印模技術(shù)。

取印模的步驟方法

１）取模前的準(zhǔn)備：調(diào)整體位、選擇托盤(pán)。上頜托盤(pán)的寬度應(yīng)比上頜牙槽嵴寬2~3mm，周?chē)吘壐叨葢?yīng)離開(kāi)黏膜皺襞約2mm，后緣應(yīng)超過(guò)顫動(dòng)線3~4mm。下頜托盤(pán)的高度和寬度與上頜的托盤(pán)相同，其長(zhǎng)度應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊。

２）取初印模：初印?？捎贸善窡o(wú)牙頜托盤(pán)加藻酸鹽印模材制取，或用成品無(wú)牙頜托盤(pán)加印模膏制取。用印模膏時(shí)，需先將其放置在60~70℃熱水中軟化。

３）制作個(gè)別托盤(pán)。①樹(shù)脂個(gè)別托盤(pán)制作：初印模灌注石膏模型，在模型上用變色鉛筆畫(huà)出個(gè)別托盤(pán)的范圍，短于前庭溝和口底最深處及唇頰舌系2~3mm。上頜個(gè)別托盤(pán)后緣超過(guò)顫動(dòng)線2~3mm，下頜后緣覆蓋整個(gè)磨牙后墊。

４）取終印模：使用樹(shù)脂個(gè)別托盤(pán)取終印模前需先添加印模膏邊緣材料，烤軟后進(jìn)行邊緣整塑，整塑方法如前所述。應(yīng)避免邊緣整塑材料進(jìn)入托盤(pán)組織面。取終印模時(shí)，將調(diào)拌好的終印模材均勻涂布在個(gè)別托盤(pán)組織面和邊緣，旋轉(zhuǎn)進(jìn)入口中，輕壓使托盤(pán)就位，穩(wěn)住托盤(pán)并進(jìn)行肌功能整塑，待材料硬固后從口內(nèi)取出。

印模的要求

１）使組織受壓均勻；２）適當(dāng)擴(kuò)大印模面積；３）采取功能性印模；４）保持穩(wěn)定的位置。

２.模型全口義齒模型是灌注模型材料于無(wú)牙頜印模內(nèi)形成的無(wú)牙頜陽(yáng)模。在全口義齒初印模上灌注石膏形成初模型，用來(lái)制作個(gè)別托盤(pán)。在全口義齒終印模上灌注石膏或人造石形成終模型（又稱(chēng)工作模型）用來(lái)制作暫基托及全口義齒。模型灌注方法有圍模灌注法和

一般灌注法兩種。

（１）工作模型的要求：模型邊緣側(cè)面厚度3mm，模型基底最薄處不能少于10mm。模型后緣應(yīng)在腭小凹后4mm，下頜模型在磨牙后墊自其前緣起不少于10mm。

（２）模型后堤區(qū)的處理：如果在取終印模時(shí)未做后堤區(qū)加壓完成邊緣修整者，可在工作

模型上用刮除石膏的方法形成后堤區(qū)。在上頜石膏模型上的后顫動(dòng)線處，或腭小凹后2mm

至兩側(cè)翼上頜切跡的連線處，用雕刻刀切一條Ｖ字形溝，此溝中間深度１~１.５mm，越近中線和翼上頜切跡處越淺。沿此溝向前約5mm的范圍內(nèi)，將石膏模型刮去一層，愈向前刮除得愈少，使與上腭的黏膜面移行。

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